DPP方案最大的一个问题就是光源的焦点功率不足。

    光刻机的光源是用来烧石头（单晶硅）的，功率不足自然就烧不动，也就没法蚀刻出芯片。

    好在，因为专利的限制，当前中国走DPP方案的EUV光刻机研究，是要比走LPP方案容易的。

    虽然当前DPP方案还无法商用，暂且无法用在EUV光刻机身上，但DPP方案技术是会进步的。

    DPP方案本身优势也不小，比如光源稳定、对清洁度要求低，以及成本更低。

    并且，陈平江也不会将鸡蛋放在一个篮子里。

    除了哈工大这头，XX光电所和沪上某家研究所都有资助，大家进度不一，路线也不同。

    任何一方取得最终突破，都会大大提前国产EUV光刻机问世的时间。

本章完