第659章 光刻机里的DPP方案 (2/3)
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节点二二 ↓

星核心供应商。

    比如安集科技的CMP抛光液打破美日垄断,进入14nm产线。

    比如南大光电的ArF光刻胶项目已经逐步量产。

    梁老感慨道:“幸好你几年前有远见,先扶持了一批国产企业,否则我们面临的麻烦还要更多,不过我始终是有信心的。”

    陈平江含蓄的笑了笑。

    他从不担心国产芯片的未来。

    即便是按照原本的时间线,到了24年国产成熟制成芯片也会迎来重大突破,出口销售额达到千亿美元。

    一切所缺的不过是时间而已。

    每个环节进步一点,汇合集合就是巨大的进步。

    ……

    ……

    两天后,陈平江已经从沪上赶往了祖国的最北端。

    在哈工大的校园里,陈平江见到了赵永鹏。

    “哈哈,陈董,虽是初次见面,却已经神交已久啊。”

    赵永鹏亲热的同陈平江握手。

    陈平江笑眯眯道:“赵教授不必客气叫我小陈就好,今天我过来是特意对您的卓越贡献表示感谢的。”

    陈平江说不用客气,赵永鹏哪里敢真的叫他小陈,只当是客套话。

    “军功章也应当有你的一半,如果不是之前您的资助和多方面协助,我们也不会如此顺利。”赵永鹏招招手,“我们去实验室看看。”

    陈平江来到哈工大,之前已经和校方打过招呼,希望低调处理,这才没有引起围观。

    这次过来完全是因为赵永鹏团队顺利研发出“放电等离子体极紫外光刻光源”的缘故。

    这个项目,陈平江已经跟了好几年,前后资助不下2000万,并且表示不要任何知识产权,如今终于到了开花结果的时候。

    宽敞明亮的实验室内。

    陈平江身着无尘服,戴着口罩仔细听着赵永鹏介绍。

    “在演示之前,我有必要说下。这台机器的光源焦点功率只有43瓦,与asml的最近两代EUV光源250-500瓦,差距还是巨大的,目前只能称之为实验室阶段,不过我们团队有信心,在两年内将功率提升到200瓦。”

    陈平江点了点头,表示理解。

    毕竟在EUV中光源也只是一部分,还需要其他十万个零件一起协同配合。

    但不管怎么说,也搞定了最关键的一个部分。

    在当前的EUV光刻机技术上,存在两种光刻机技术路线。

    一种是DPP方案(放电产生等离子体),一种是LPP方案(激光产生等离子体)。

    当前全球唯一一家能生产EUV光刻机,垄断了全球高端光刻机市场的公司——荷兰ASML公司,采用的就是LPP方案。

    哈工大的这个“放电等离子体极紫外光刻光源”,从名字上就能看出它走的是DPP方案。

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