第四百八十八章 看吧,是你勾引我 (2/3)
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节点二二 ↓

;  “辛苦。”

    许青舟点头,查看实验数据。

    卡森负责数据清洗,去除异常值,或者采用插值法填补缺失值,孙思敏和马尔斯就负责些简单工作,对数据进行统一化,分类编码。

    马尔斯忍不住说道:“教授,我看院报,詹姆士团队已经完成了第三轮实验,他们已经通过原子层沉积(ALD)设计,预计成品实现界面缺陷密度降低90%,量子比特的弛豫时间提升至500微秒,退相位时间突破200微秒。”

    “哦,挺厉害。”许青舟微微点头。

    “就没了?”马尔斯挠头,看起来教授一点都不慌啊。

    许青舟想了想,点头,沉声说道:“能和这样的团队做对手,这完全证明我们也很厉害。”

    “.”

    孙思敏和马尔斯相视一眼,这样一想,貌似他们这个团队真的挺厉害。

    “这份公告,是给项目管理办公室,投资方看的,当然,同样是给我们看的。”

    卡森转着办公椅,给自己倒了杯水,又回到位置上,很有经验地继续说道:“搞科研就像吃巧克力一样,你永远不知道下一块是什么味道。”

    不少课题组都埋头在这个前沿领域,看到这个消息自然会有压力,有的奋起直追,但其中也不乏直接放弃,甚至把自己实验数据打包送给领先课题组的,换取一个挂名的机会。

    这就叫及时制止。

    免得辛辛苦苦一年,发现自己的课题早就被其他人做出来了。

    “欧克,为了表示对强大对手的尊重,你们俩应该看书了。”许青舟敲敲桌子说。

    孙思敏和马尔斯点点头,低头继续看笔记。

    这头,许青舟也把目光放到电脑屏幕上,看A08号样品的数据。

    这一个月时间,他们基本都在做先导试验,验证石墨烯基底能否承受ALD沉积温度,测试金属的ALD生长可行性。

    非常基础的工作,就好比建大厦前,选择和测试不同的砖块,钢筋和水泥。

    A07号样品的问题,电化学剥离(FeCl)时薄膜撕裂或褶皱,导致后续ALD沉积基底不平整。

    经过试验,他们最终采用双层PMMA保护,先旋涂300 nm PMMA,再覆盖50 nm PDMS增强机械强度。

    最后,再用低电压剥离,电压≤1 V,电解液温度控制在25±2°C,以此来减少应力损伤。

    “嗯,撕裂问题搞定了。”

    许青舟目光扫过一排排数据,满意点头,可10分钟过去,他视线停下。

    【EDS显示Nb:Sn = 3.5:1± 0.2。】

    “Nb:Sn原子比偏离±17%。”

    许青舟向后靠在椅子上,揉了揉太阳穴。

    “是的,临界温度从理论18 K降至15 K,4.2 K\/12 T下临界

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