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    “DUV光源是准分子激光，而AS-ML1的EUV光刻机用激光激发等离子来发射EUV光子是有原因的。

    DUV光刻机的波长能达到193纳米，而EUV光源的波长则为13.5纳米。

    相信赵教授您也知道，二者之间的差距十分明显，波长越短，所能实现的分辨率越高。这让EUV光刻机能够承担高精度芯片的生产任务。

    所以DUV虽然能做48NM，但是难度太大了，必须换EUV才行。”

    赵教授没有说话，他身侧的一位年轻研发人却是说道：“EUV光源都被国外公司包圆了，哪里有那么容易给我们用。”

    “德国莱卡的镜头、通快的光源、德美日韩的专利技术，是的确被包圆了。

    可咱们又不是不可以直接从源头开始换。”罗佳说。

    年轻的研发人员冷哼了一声：“说的这么简单，从新研发光源，哪里那么容易。”

本章完