第一百零三章:晶圆制造设备 (3/3)
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节点二二 ↓

把二次电子束缚在靶表面特定区域,实现高粒子密度和高能量电离,把靶原子或疯子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜的pvd设备。

    这些设备都……其实有国产厂商。

本章完

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