入都写了小半。

    虽然不能说完全照着做就能实现刻蚀工艺和离子注入工艺，但是几乎一下子把他们需要验证的错误选项排除了大半。

    他们的目光不由陷入呆滞当中。

    不多时，回去休息的专家和教授们回到实验室，看见三人的表情，好奇地看向稿纸，目光同样变得呆滞起来。

    “这，这到底是谁写的？”良久，陆骞嘴里终于憋出一个字。

    他们苦熬了许久都没搞出来，结果过了一晚上，竟然有人直接给弄出来了！

    黄新华看着稿纸上的笔记，目光微微一动，道：“你们不觉得，这个笔迹，还有这每句开头一定要加我推断的格式，很像一个人吗？”

    这么一说，答案呼之欲出，在场的专家教授嘴里都不由脱口而出：“李暮！”

    黄新华微微颔首，道：“恐怕也只有他，才能有这个天分。”

    闻言，顾鸣、陆骞等一众教授不由连连点头。

    “既然有了这份方案，我觉得，我们离攻克集成电路的四项关键工艺已经很近了。”黄新华深吸一口气，环视了实验室内的所有教授一眼。

    他继续道：“我认为，我们有必要和半导体研究所那边联系，进行联合实验。”

    ……

    半导体研究所。

    王绶觉正在实验室内，检查最近的研究进度。

    有着李暮方案的帮助，他们所有研究几乎都在这个大框架下进行。

    起先他还有点担心，万一走错路，可能会浪费大量的人力物力和财力。

    但越研究到后面，他越发现，前方的那条道路一定是正确的。

    就好像一条笔直的康庄大道，他们虽然一路会跌跌撞撞，碰到不少阻碍。

    但只要朝前走，就一定能走到终点。

    王绶觉手下的研究员正在汇报工作：

    “王所，我们已经配出了可用的溶液，接下来只需要在配比、温度和反应时间上进行实验，就有很大的可能性实现刻蚀作用。”

    “呵呵，这次我们一定能过超过京工院。”

    “做得好，继续努力。”王绶觉闻言，不由点点头，心中总算有点找回面子的感觉。

    不过想到他们半导体研究所竟然和一个大学的研究团队对比，心中就不免苦笑。

    在四项工艺的研究工作上，明明他们半导体研究所实力更雄厚，却接连被京工院那边超过。

    无论是光刻技术，还是薄膜沉积技术上，都落人一步。

    全所上下现在都憋着气，就为了在刻蚀和离子注入两项技术上找回面子。

    “可不能叫人小瞧了啊！”王绶觉笑了笑，整理了一下研究进度，就准备拿去给所长，让他去给京工院那边同步。

    然而没等王绶觉过去，半导体研究所的所长就匆匆忙忙地冲进他的办公室。

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