第457章 盾构机 (6/10)
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节点二二 ↓

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    ……

    说完了光源。

    李暮接着又说起光学系统。

    现在他们的光学系统,还属于相对初级阶段。

    主要采用的是2:1投影光学系统。

    这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上,设计相对简单,分辨率也受到不小的限制。

    如果可以提升到4:1,甚至是5:1的话。

    解决100w集成度的标准,不会有任何问题。

    除此之外,还可以在高数值孔径透镜和浸没式光学系统方面下功夫。

    只不过以目前的技术来说,想要同时推进三者的研究,难度实在太大了。

    好在也没必要在光学系统上死磕。

    掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。

    光刻胶材料朝着深紫外光刻胶的方向发展。

    机械和控制系统就去研制精密对准和调平系统。

    多管齐下的话。

    足够在短时间内实现集成度的迅速突破。

    ……

    用了两个小时左右的时间。

    李暮才将所有的内容都阐述完毕。

    他说完后。

    黄新华“唰唰~”地记完最后一笔,当即惊叹道:

    “没想到你竟然还能找出这么多的办法,这下100w集成度的问题就都解决了!”

    他忽然有点理解M帝和老大哥那边的心情了。

    自己连落后的技术都还没有研究出来。

    李暮这边一出手就是一堆的更新的方案,差距简直不要太明显。

    而且他几乎可以肯定,这些方案具有极高的可信度。

    只要给他们一些时间。

    突破100w集成度没有任何难度。

    “幸好这样的天才,是出在我们夏国啊!”黄新华心中感慨不已。

    一旁的王绶觉也放下了笔记,笑道:

    “也怪不得国外连用诺奖勾引你出去这种招都能用出来了,看来是真被逼急了!”

    诺奖能获得现在的地位,得到全世界科学家的认可,可不容易。

    就为了一个人,冒着损害半个世纪积累的声誉的危险来设计。

    成本不可谓不高。

    “还有得他们急眼的时候呢。”李暮微微笑道。

    这才哪到哪。

 

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