给这些年轻人。

    “同志们，我们的首要目标不是性能多高，而是‘稳定’和‘重复性’。”

    赵四强调，“比如，十次工艺循环，能有七次做出参数一致的二极管，就是巨大的成功。”

    “要像记录药剂配方一样，精确记录每一次的工艺参数和结果，建立我们自己的基础工艺档案。”

    年轻的组员们被如此具体、前沿又极具操作性的指导所吸引，眼中闪烁着兴奋与专注的光芒。

    他们虽然不完全明白工作的全部战略意义，但能感受到其分量和深切期望。

    启动会结束后，两个秘密的学组便悄无声息地投入了工作。

    他们利用极其简陋的条件，从最基础的硅片清洗、氧化层生长开始摸索。

    失败是家常便饭，硅片污染、氧化层龟裂、光刻图形模糊……问题层出不穷。

    但每当他们遇到难以逾越的障碍时，赵四总能凭借特殊渠道，带来一些“最新的国外文献综述”或“个人的分析建议”，往往能一针见血地指出问题所在。

    当北京组遇到氧化层不均匀时，赵四提示他们重点检查炉管气密性和气流稳定性；

    当上海组光刻胶粘附力不足时，赵四建议他们尝试调整前烘温度和时间组合。

    这些精准的指点，源于系统签到的支撑，每当有相关技术内容或者材料通过签到获得之后，赵四都会第一时间送到两个学组。

    这极大地加快了摸索进程，避免了年轻人陷入盲目试错的泥潭。

    进展缓慢，如同蚂蚁搬家，但就是在这一次次的失败、总结、调整中，最基础的工艺经验开始一点点积累。

    当第一批粗糙但确实形成了PN结、并能观测到初步整流特性的硅器件在显微镜下呈现时，两个点的年轻人都激动得彻夜未眠。

    没有鲜花，没有掌声，甚至无人知晓他们的存在。

    但在北京和上海这两个安静的角落里，中国集成电路产业最原始、最微弱的火种，已经被赵四凭借系统提供的“罗盘”和“地图”，以极其隐蔽且务实的方式小心翼翼地点燃。

    这簇由知识和远见点燃的火苗，虽微弱，却顽强地燃烧着，静待燎原之日。

本章完