bsp;   所以你就知道了吧，这本身就是一场中国VS全球企业的竞赛。

    EUV光刻机里面有十万个零件，被称为工业皇冠上的明珠，30多个国家5000多个行业顶级厂商共同完成，技术要求非常高，也只有ASML能造。这也不难理解，为什么我们能造出原子弹，却迟迟造不出EUV光刻机了，没技术没零件，全都要自己研究。

    一台先进的EUV光刻机，平均需要1.5亿美元一台，运费就要10亿，重达180吨，各种零部件就需要40个集装箱运输。

    组装调试就需要一年时间，组装完成后有两辆公交车长。

    即便如此，安装调试费用也需要上亿，关键你还买不到货……

    你想买人家还不卖！！！

    最恶心的是……

    陈平江纵然知道历史，但是第一代EUV商用也要等到2016年，在此之前他只能用DUV。

    DUV光刻机在制程上基本上只能做到25纳米，即使通过一些先进的技术手段，如Intel的双工作台模式，也只能达到10纳米的制程，但难以突破这一极限。

    EUV光刻机能够支持更先进的制程技术，如7纳米、5纳米甚至3纳米。

    DUV光刻机主要利用光的折射原理，通过透镜和光学器件对紫外光进行聚焦和定位。EUV光刻机则利用光的反射原理，使用反射镜而不是折射镜来传递光束。

    相比之下，DUV光刻机在技术和成本上相对成熟和稳定，能够满足大多数芯片制造的需求。尤其是在一些对制程要求不太苛刻的应用领域，如存储器、模拟芯片等。

    不过，陈平江手里还有一张王牌。

    只要点拨一下梁孟松，让他带头搞出来四重曝光技术。

    那么同样可以用DUV来制造14纳米甚至7纳米的芯片。

    这张牌才是陈平江手里的大王，更是他敢做芯片的底气。

    2011年这个时间节点，最先进的也不过22纳米。

    算上华芯晶圆厂投产的时间，如果全力研发14纳米，那一旦等到研发成功的那一天，也就是华芯跻身世界一流晶圆厂的那天。

    …………

    就在陈平江忙着筹备晶圆厂的时候。

    东江政府那边有些坐不住了。

    圈子就这么大，不知道从哪里传出来的消息，陈平江最终决定将晶圆厂放在了沪上。

    这下子可把东江方面急死了。

    沪上，你们怎么敢！？

    怎么敢抢我们到嘴的鸭子！

    好家伙，这下子东江从上到下乱成了一锅粥，据说大大小小的会开了十几次，其中还包括市里的常委会。

    开会的目的就一个。

    不惜一切代价要留住华芯的晶圆厂！

    考虑到芯片产业的特殊性和需要大量投资的缘故，未来十年免税！

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